三星电子NRD-K半导体研发综合体进机 将导入ASML High NA EUV光刻设备

📣 创作者福利来啦！Gate 广场创作者认证正式上线！
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🏆 除此之外前50名成功申请者：$50 仓位体验券
所有成功申请者均可获得认证创作者徽章+官号 “首批认证创作者榜单” 曝光
海外用户：Gate 平沿帽 = $20 仓位体验券，Gate X RedBull 随行杯 = $30 仓位体验券
申请步骤：
1️⃣ App 首页 → 底部进入【广场】 → 点击右上角头像进入个人主页
2️⃣ 点击头像右下角【申请认证】 → 进入认证页面
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