5 de maio, Wormhole anunciou que a rede de incentivo de código aberto de inteligência artificial Morpheus foi lançada através do framework de transferência de token nativo (NTT) do Wormhole, com o lançamento do token MOR multi-cadeia, que recompensará os contribuidores que constroem, mantêm e utilizam a infraestrutura de inteligência artificial descentralizada de código aberto.

Em 30 de abril, a Samsung está considerando aplicar resistências de óxido metálico (MOR) em seu processo de litografia ultravioleta extrema (EUV) DRAM de próxima geração. O MOR é considerado pela indústria como a próxima geração de fotorresistência (PR), que assumirá o adesivo de amplificação química (CAR) na litografia avançada de chips de hoje. A Samsung está considerando usar MOR em sua 6ª geração de DRAM de 10nm (1cDRAM), principalmente nas camadas 6 ou 7, com produtos relacionados programados para entrar em produção no segundo semestre deste ano.